Мусс-маски SmoRodina производятся на основе гидратированного кремнезема, благодаря которому объем маски увеличивается в 40 раз при смешивании с водой, что выглядит как настоящее волшебство! Имеют очень приятную, воздушную консистенцию, наносятся подобно крему на кожу лица, шеи и зону декольте. Созданы для релакса, для признания в любви своей кожи и качественного домашнего СПА. Имеют изысканный, богатый аромат.
Уникальные французские ингредиенты в особой нежной и воздушной маске для домашнего СПА-релакса!
SKIN RELAX MOUSSE MASK
Успокаивающая волшебная мусс-маска с алоэ вера и полимаринами:
- полезна для всех типов кожи,
- насыщает обезвоженную кожу влагой и микроэлементами,
- возвращает свежесть и отдохнувший вид, заметно успокаивает,
- выручает при выраженной нехватке влаги и последствий солнечных ожогов,
- содержит эксклюзивный французский ингредиент – полимарины, получаемые из больших морских красных водорослей с высокой концентрацией сульфатированных галактанов, способствующих смягчению, реминерализации и регенерации кожи.
Каждая упаковка маски содержит 3 мини-саше для 3-ех процедур.
Упаковка: металлизированный дой-пак.
*сортировать вместе с пластиковыми отходами. Мы работаем над внедрением уникальных натуральных упаковок для масок.
Натуральность: 98%

СОСТАВ: Гидратированный кремнезем, вода, экстракт бурых водорослей Durvillaea antarctica (производство Франция), парфюм, масло облепихи, бутиленгликоль, эксракт саграсских водорослей Sagrassum Muticum, экстракт алое вера, CI 42090 (синий 1) - Бензоат натрия - CI 19140 (желтый 5), витамин С, масло подсолнечника, экстракт розмарина.

*Внимание! Маска содержит 2% неорганических ингредиентов: пигментный краситель и бутиленгликоль - ожижающий компонент, используется для предотвращает слеживание маски, увлажняет и смягчает кожу, одобрен CTFA, US EPA, US FDA для использования в косметике. Согласно проверке US EPA (агенство по охране окружающей среды США) "является безопасным компонентом, который не обладает токсичностью, способной воздействовать на организм на клеточном и генетическом уровне".